原子层沉积氧化锌应用于铜铟镓硒太阳能电池缓冲层的研究
来源:论文学术网
时间:2024-08-18 15:28:05
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原子层沉积氧化锌应用于铜铟镓硒太阳能电池缓冲层的研究【摘要】:用原子层沉积法在钠钙玻璃上沉积氧化锌薄膜,利用场发射扫描电镜和X射线衍射(XRD)等对样品表面形貌和物相进行分析,结果
【摘要】:用原子层沉积法在钠钙玻璃上沉积氧化锌薄膜,利用场发射扫描电镜和X射线衍射(XRD)等对样品表面形貌和物相进行分析,结果表明得到的ZnO纳米颗粒为六角纤锌矿结构,颗粒的尺寸在30~60nm之间;测得的ZnO薄膜厚度仅50nm,符合缓冲层要求;薄膜在可见光区域透射率达90%以上;使用原子层沉积氧化锌薄膜作铜铟镓硒太阳能电池的缓冲层,TEM显示氧化锌层完好、致密地覆盖在CIGS层上,电池的光电转换效率较高,完全可以替代有毒的CdS作缓冲层。
【作者单位】:
广东工业大学材料与能源学院;华南理工大学电子与信息学院;
【关键词】: 原子层沉积 氧化锌薄膜 铜铟镓硒太阳能电池 缓冲层
【基金】:广东省大学生创新实验项目(1056111031) 广东省科技计划项目(2011A090200084)
【分类号】:TM914.4
【正文快照】: 0引言原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔,在沉积基体上化学吸附及反应并形成沉积膜的一种新方法[1]。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体(高纯N2)对原子层沉积反应腔进行清洗,原子层沉积的表面反应具有自限性,不断重复这种自限制
【关键词】: 原子层沉积 氧化锌薄膜 铜铟镓硒太阳能电池 缓冲层
【基金】:广东省大学生创新实验项目(1056111031) 广东省科技计划项目(2011A090200084)
【分类号】:TM914.4
【正文快照】: 0引言原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应腔,在沉积基体上化学吸附及反应并形成沉积膜的一种新方法[1]。在前驱体脉冲之间需要用惰性气体(高纯N2)对原子层沉积反应腔进行清洗,原子层沉积的表面反应具有自限性,不断重复这种自限制
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