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磁控溅射制备W-Al_2O_3太阳能选择性吸收涂层

来源:论文学术网
时间:2024-08-19 00:43:11
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磁控溅射制备W-Al_2O_3太阳能选择性吸收涂层【摘要】:正采用全封闭磁场非平衡磁控溅射技术,制备金属W、金属/氧化物Al_2O_3共生涂层、Al_2O_3陶瓷减反射涂层的新型膜

【摘要】:正采用全封闭磁场非平衡磁控溅射技术,制备金属W、金属/氧化物Al_2O_3共生涂层、Al_2O_3陶瓷减反射涂层的新型膜系。采用椭偏仪和Bruggeman理论计算确定各个膜层的光学特性(折射率和消光系数),测量吸收系数和发射率,应用TFC光学薄膜设计程序设计新型膜系,采用 【作者单位】:大连交通大学 东莞康达机电公司 大连理工大学
【关键词】:太阳能 涂层 W-Al_O_ 磁控溅射
【分类号】:TB383.2
【正文快照】: 采用全封闭磁场非平衡磁控溅射技术,制备金属w、金属/氧化物A1203共生涂层、Al刃3陶瓷减反射涂层的新型膜系。采用椭偏仪和Bruggeman理论计算确定各个膜层的光学特性(折射率和消光系数);测量吸收系数和发射率,应用TFC光学薄膜设计程序设计新型膜系,采用试验和返演方法优化

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