晶体硅太阳能电池激光隔离pn结的研究
晶体硅太阳能电池激光隔离pn结的研究【摘要】:在晶体硅太阳能电池生产过程中,为了避免过低的填充因子,电池边缘多余的pn结必须去掉。首先利用激光温度场在硅材料中的分布,得出硅片在纳秒
【关键词】: 晶体硅太阳能电池 激光隔离 纳秒激光 并联电阻 漏电
【分类号】:TM914.41
【正文快照】: 0引言在晶体硅太阳能电池制造过程中使用的扩散方法不可避免地在电池边缘产生多余的pn结,电池边缘多余pn结如果不被去除,会导致填充因子过低,电池效率大幅下降。目前国内对于晶体硅太阳能电池边缘pn结隔离主要有两种方法:一种是等离子刻蚀,蚀刻气体如氟碳化合物、氟化的碳氢
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