太阳能级硅片化学清洗技术进展

【摘要】：介绍了硅片表面污染物的种类、来源及形成机理,论述了太阳能级硅片传统的RCA清洗技术中各种清洗液的清洗原理和优缺点,同时对改进的RCA清洗、HF/O3和电化学清洗等新型湿化学清洗技术进行了阐述,指出了太阳能级硅片化学清洗技术的发展方向。 【作者单位】： 新余学院新能源科学与工程学院;
【关键词】： 光伏 硅片 湿化学 清洗
【分类号】：TN305.97
【正文快照】： 06-0092-03)太阳能级硅片清洗是指硅晶片在经多线切割加工过程中已受到严重沾污,需要采用物理或化学的方法去除其表面的污染物,以获得符合洁净度和表面状态要求的硅片的过程。硅片表面残留的污染物会对后续太阳能电池片制作过程中的制绒工序造成影响,进而影响电池片的性能、

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