无机太阳能光电转换的材料
来源:江南娱乐-意甲尤文图斯亚
时间:2012-08-14 22:03:08
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无机太阳能光电转换的材料用于光电化学太阳电池中半导体电极研究的材料包括有:Si、Ⅱ-Ⅵ族化合物CdX (X=S、Se、Te)、Ⅲ-Ⅴ族化合物(GaAs、InP)、二硫族层状化合物(
用于光电化学太阳电池中半导体电极研究的材料包括有:Si、Ⅱ-Ⅵ族化合物CdX (X=S、Se、Te)、Ⅲ-Ⅴ族化合物(GaAs、InP)、二硫族层状化合物(MoS2、FeS2)、三元化合物(CuInSe2、CuInS2、AgInSe2)及氧化物半导体(TiO2、ZnO、Fe2O3)等,其中窄禁带半导体(Eg≤2.0eV)可获得较高的光电转换效率,但存在光腐蚀现象,宽禁带半导体(Eg≥3.0eV)有良好的稳定性,但对太阳能的吸收率低。因此大量的研究工作都是围绕提高光电效率和稳定性进行的。
Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体CdX(X=S、Se、Te)是光电化学研究较为普遍的光电极材料, 其主要优点是可用多种方法如粉末压片法、涂敷法、真空沉积、化学气相沉积、电沉积、化学溶液沉积以及喷涂热解法等制备,得到转换效率较高的多晶或薄膜光电极,这些方法价格低廉、简单易行,多数还可适用于大面积制备。在CdX(X=S、Se、Te)化合物中CdS的能隙较大(Eg=2.4eV),只能吸收小于517nm波长的太阳光,曾用压片烧结、涂敷、喷涂热分解制备各种CdS电极并用RuS2进行光谱敏化,将吸收截止波长由517nm延长至890nm,但转换效率都很低,因此研究的重点是CdSe和CdTe电极。用涂敷法在各种金属基底(钛、铬、钼、铂)、非金属基底(二氧化锡、石墨、破碳)上都可成功制备性能稳定、重现性好的CdSe薄膜电极。
在金属基底CdSe薄膜结合力强,界面电阻小,经过电极表面的化学刻蚀和光化学刻蚀获得了7%的能量转换效率。进一步控制热处理气氛中的含氧量使转换效率提高至8.3%。制备中用Te替代部份Se形成CdSe和CdSexTe1-x薄膜电极,其光谱响应范围与X值大小有关,当调X=0.63时能量转换效率达到12.3%。CdTe具有吸收太阳光能的最佳能隙(Eg=1.4eV),其单晶电极在多硫溶液中达到15.6%的光电转换效率,但用电沉积法制备多晶薄膜电极却只获得3.6%的转换效率。比较CdX(X=S、Se、Te)光电极性能不难看出,CdSe和CdSexTe1-x薄膜的光电性能和稳定性能优于CdS和CdTe电极,是光电化学研究中有发展前途的光电极材料。
在CdS和CdTe薄膜的研究中证明了表面修饰也是改善光电性能的有效措施,研究Au、Pt、Ru和Pd等贵金属修饰CdS和CdTe电极,发现贵金属在电极表面的构型不同会产生不同效果,大量的Pt岛覆盖电极表面降低了电极界面光电化学反应的极化,增大了反应的交换电流,是电极界面光电催化的最佳构型。Pd的修饰形成了金属致密层,结果使光电性能下降,产生与Pt修饰相反的效果。用LB膜技术实现分子取向、排列结构和浓度可控的条件下研究具有不同氧化还原电位和传递电荷性质的二茂铁衍生物修饰CdSe,薄膜电极,将电极表面的微观分子设计与宏观电极过程联系起来,为修饰分子的优化提供大量信息,使半导体电极表面修饰技术有很大的提高和发展。
对Ⅲ~Ⅴ族化合物半导体主要研究GaAs和InP单晶电极,它们具有吸收太阳光能的最 佳带隙,可以构成高效的光电化学电池。n-GaAs电极在多硒溶液中有较好的稳定性,经H2SO4-H2O2混合溶液的反复刻蚀,再吸附Ru3+离子后有效降低表面复合,使光电转换效率大大提高,接近于20%。n-InP电极的晶面取向和掺杂浓度对光电性能有很大影响,掺杂浓度低(1016cm-3)的光电流、光电压优于掺杂浓度高(1018cm-3)的电极;在Fe2+/Fe3+酸性溶液中,性能稳定,转换效率达到18%,p-InP电极在V2+/V3+溶液中表面经Ag修饰和电镀Cu改善背面接触后效率达到18.8%。
Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体CdX(X=S、Se、Te)是光电化学研究较为普遍的光电极材料, 其主要优点是可用多种方法如粉末压片法、涂敷法、真空沉积、化学气相沉积、电沉积、化学溶液沉积以及喷涂热解法等制备,得到转换效率较高的多晶或薄膜光电极,这些方法价格低廉、简单易行,多数还可适用于大面积制备。在CdX(X=S、Se、Te)化合物中CdS的能隙较大(Eg=2.4eV),只能吸收小于517nm波长的太阳光,曾用压片烧结、涂敷、喷涂热分解制备各种CdS电极并用RuS2进行光谱敏化,将吸收截止波长由517nm延长至890nm,但转换效率都很低,因此研究的重点是CdSe和CdTe电极。用涂敷法在各种金属基底(钛、铬、钼、铂)、非金属基底(二氧化锡、石墨、破碳)上都可成功制备性能稳定、重现性好的CdSe薄膜电极。
在金属基底CdSe薄膜结合力强,界面电阻小,经过电极表面的化学刻蚀和光化学刻蚀获得了7%的能量转换效率。进一步控制热处理气氛中的含氧量使转换效率提高至8.3%。制备中用Te替代部份Se形成CdSe和CdSexTe1-x薄膜电极,其光谱响应范围与X值大小有关,当调X=0.63时能量转换效率达到12.3%。CdTe具有吸收太阳光能的最佳能隙(Eg=1.4eV),其单晶电极在多硫溶液中达到15.6%的光电转换效率,但用电沉积法制备多晶薄膜电极却只获得3.6%的转换效率。比较CdX(X=S、Se、Te)光电极性能不难看出,CdSe和CdSexTe1-x薄膜的光电性能和稳定性能优于CdS和CdTe电极,是光电化学研究中有发展前途的光电极材料。
在CdS和CdTe薄膜的研究中证明了表面修饰也是改善光电性能的有效措施,研究Au、Pt、Ru和Pd等贵金属修饰CdS和CdTe电极,发现贵金属在电极表面的构型不同会产生不同效果,大量的Pt岛覆盖电极表面降低了电极界面光电化学反应的极化,增大了反应的交换电流,是电极界面光电催化的最佳构型。Pd的修饰形成了金属致密层,结果使光电性能下降,产生与Pt修饰相反的效果。用LB膜技术实现分子取向、排列结构和浓度可控的条件下研究具有不同氧化还原电位和传递电荷性质的二茂铁衍生物修饰CdSe,薄膜电极,将电极表面的微观分子设计与宏观电极过程联系起来,为修饰分子的优化提供大量信息,使半导体电极表面修饰技术有很大的提高和发展。
对Ⅲ~Ⅴ族化合物半导体主要研究GaAs和InP单晶电极,它们具有吸收太阳光能的最 佳带隙,可以构成高效的光电化学电池。n-GaAs电极在多硒溶液中有较好的稳定性,经H2SO4-H2O2混合溶液的反复刻蚀,再吸附Ru3+离子后有效降低表面复合,使光电转换效率大大提高,接近于20%。n-InP电极的晶面取向和掺杂浓度对光电性能有很大影响,掺杂浓度低(1016cm-3)的光电流、光电压优于掺杂浓度高(1018cm-3)的电极;在Fe2+/Fe3+酸性溶液中,性能稳定,转换效率达到18%,p-InP电极在V2+/V3+溶液中表面经Ag修饰和电镀Cu改善背面接触后效率达到18.8%。
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